[发明专利]像素结构有效
| 申请号： | 201610907122.8 | 申请日： | 2016-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN107967874B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 李及元;伊恩法兰契;林胜隆;梁广恒;蔡淑芬;陈家弘 | 申请（专利权）人： | 元太科技工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人： | 王正茂;丛芳 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种像素结构，包含像素电极、至少一个数据选择线与至少一个隔离线。至少一个隔离线沿像素电极排列。像素电极用以储存像素电压。至少一个数据选择线用以传递至少一个数据信号。至少一个隔离线用以降低至少一个数据信号的电场对像素电极的像素电压的影响。至少一个隔离线的投影区域与像素电极的投影区域重叠。本发明可通过耦接固定电压(例如接地端)的隔离线来降低数据信号的电场对像素电极(尤其是第二电极)的影响。因此，可降低亮度不均(Mura)的现象，有效地提升像素结构的显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 | ||
【主权项】：
一种像素结构，其特征在于，包含：像素电极，用以储存像素电压；至少一个数据选择线，用以传递至少一个数据信号；以及至少一个隔离线，沿所述像素电极排列并用以降低所述至少一个数据信号的电场对所述像素电极的所述像素电压的影响，其中所述至少一个隔离线的投影区域与所述像素电极的投影区域重叠。
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