[发明专利]一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法在审

专利信息
申请号: 201610867198.2 申请日: 2016-09-28
公开(公告)号: CN106252432A 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 蓝仕虎;何光俊;陈金良;齐鹏飞;唐智勇 申请(专利权)人: 中山瑞科新能源有限公司
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/0445;H01L31/18
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 伍传松
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法,包括以下步骤:(A)提供基板;(B)在所述基板上沉积透明导电氧化物薄膜;(C)沉积窗口层硫化镉薄膜;(D)在所述硫化镉薄膜上沉积吸收层碲化镉薄膜;(E)在所述碲化镉薄膜表面喷涂CdCl2溶液,然后进行热处理;(F)对所述经过热处理的碲化镉薄膜用含硝酸的溶液进行刻蚀;(G)对所述刻蚀的碲化镉薄膜进行PECVD等离子体处理以钝化缺陷。本发明的方法是通过在碲化镉薄膜(CdTe)太阳能电池制造过程中,引入等离子体处理,钝化缺陷,有效降低碲化镉薄膜的缺陷密度,提高材料的性能,进一步提高碲化镉薄膜太阳能电池的光电转换效率,从而提高电池性能。
搜索关键词: 一种 降低 缺陷 密度 碲化镉 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(A)提供基板;(B)在所述基板上沉积用作薄膜电池前电极的透明导电氧化物薄膜;(C)在所述透明导电氧化物薄膜表面沉积窗口层硫化镉薄膜;(D)在所述硫化镉薄膜上沉积吸收层碲化镉薄膜;(E)在所述碲化镉薄膜表面喷涂CdCl2溶液,然后进行热处理;(F)对所述经过热处理的碲化镉薄膜用含硝酸的溶液进行刻蚀;(G)对所述刻蚀的碲化镉薄膜进行PECVD等离子体处理以钝化缺陷;(H)在所述处理后的碲化镉薄膜上沉积缓冲层;(I)在所述缓冲层表面沉积金属背电极;(J)对沉积金属背电极后的电池进行退火层压。
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