[发明专利]金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层发射率模型的建模方法在审
申请号: | 201610848321.6 | 申请日: | 2016-09-26 |
公开(公告)号: | CN106649929A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 张宇峰;李明;戴景民;邵珠峰;楚春雨;付莹 | 申请(专利权)人: | 渤海大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 崔艳姣 |
地址: | 121013 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开一种金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层发射率模型的建模方法,其以金属陶瓷太阳能选择性吸收涂层的结构参数为自变量,通过有效介质理论和传播矩阵相关公式的推导和Lab‑view软件编写的运算程序,建立多层膜结构的金属‑陶瓷涂层发射率模型。本发明可预测涂层发射率的光谱选择性变化规律,对涂层结构参数的优化设计具有重要的科学价值,对推动太阳能热发电技术发展、解决能源危机和环境污染具有深远的社会意义。 | ||
搜索关键词: | 金属 陶瓷 太阳能 选择性 吸收 涂层 发射 模型 建模 方法 | ||
【主权项】:
金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层发射率模型的建模方法,其特征在于:在搭建的光谱反射实验平台上进行的,采用典型的金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层为样品,所述的典型的金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层主要由四层膜构成,第一层为减反层,第二层为具有较少金属微粒体积数的低金属掺杂吸收膜(LMVF)层,第三层为具有较高金属微粒体积数的高金属掺杂吸收膜(HMVF)层,第四层为金属反射层;在计算机Lab‑view平台下,编成可根据涂层结构参数计算涂层发射率的运算程序,具体包括以下步骤:S1、根据有效介质理论,由金属和陶瓷材料的光学常数、金属掺杂体积数,计算出LMVF、HMVF层的有效介电函数,再由介电函数‑复折射率关系式分别计算出LMVF、HMVF层的光学常数;S2、根据传播矩阵理论,利用LMVF和HMVF的光学常数和厚度,计算出膜系光学导纳的特征矩阵,求解出膜系的振幅反射系数和反射率;S3、根据能量守恒和基尔霍夫定律,得到金属‑陶瓷太阳能选择性吸收涂层光谱发射率,建立多层膜结构的金属‑陶瓷涂层发射率模型。
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