[发明专利]一种设有新型蒸镀坩埚的金属化薄膜真空镀膜装置

摘要

本发明提供一种设有新型蒸镀坩埚的金属化薄膜真空镀膜装置，包括真空镀膜室和设于真空镀膜室内的蒸镀鼓，所述蒸镀鼓的左侧固定安装有送膜机构，所述冷却转鼓的右侧固定安装有收卷机构，所述冷却转鼓的下方设有两个蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚包括用于容纳被加热物料的容纳腔、围绕在所述容纳腔外围的加热腔、以及包围所述加热腔的外壁，本发明与现有技术相比，具有以下有益效果：双供热系统设计，便于控制坩埚不同部分的温度，顶部的温度略高于材料蒸发温度，可以避免材料的凝结；通过精确控制蒸发温度，实现了材料蒸发速率的稳定。

主权项

一种设有新型蒸镀坩埚的金属化薄膜真空镀膜装置，包括真空镀膜室（57）和设于真空镀膜室（57）内的蒸镀鼓，其特征在于：所述蒸镀鼓的左侧固定安装有送膜机构，所述冷却转鼓的右侧固定安装有收卷机构，所述冷却转鼓的下方设有两个蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚包括用于容纳被加热物料的容纳腔（49）、围绕在所述容纳腔（49）外围的加热腔（50）、以及包围所述加热腔（50）的外壁（51），所述加热腔（50）内由上往下依次设有用于保证坩埚蒸发口的温度高于蒸发物料凝点并独立控温的上部加热单元（52）、位于坩埚外围独立控温的下部加热单元（53），所述加热腔（50）顶部设有用于所述被加热物料通过的流道（54），所述流道（54）的顶端设置有开口，所述流道（54）的两端的直径大于所述流道（54）中部的直径，所述流道（54）的设置有所述开口的一端的直径小于所述容纳腔（49）的内径。