[发明专利]一种硬度宽变的耐磨涂层及其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201610830915.4 申请日: 2016-09-19
公开(公告)号: CN106381471B 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 黄峰;李朋;贾丛丛;葛芳芳;朱萍 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02
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地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种硬度宽变的耐磨涂层及其制备方法,所述的耐磨涂层的组成为CrxSiyN1‑x‑y,其中x=0.45~0.55,y=0.03~0.15,x,y为原子比率;所述的耐磨涂层呈长短不一的柱状晶生长结构,每个柱状晶的宽度为40~150nm,柱状晶的长宽比为15~55,沿涂层生长方向,在所述柱状晶长度的30~75%处出现了分离存在孔隙,孔隙宽度为2~10nm。所述的耐磨涂层的硬度可在较大范围内变动,而所述的耐磨涂层的耐磨性几乎不受影响。所述的耐磨涂层可应用于摩擦传动部件。由于所述的耐磨涂层硬度在较大范围内可调,可使主副摩擦部件保持同样的硬度,这样不会由于硬度的差异,使得较低硬度的部件易被磨损,进而改善主副摩擦部件之间的融合性。
搜索关键词: 一种 硬度 耐磨 涂层 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种硬度宽变的耐磨涂层,其特征在于,所述的耐磨涂层的组成为CrxSiyN1‑x‑y,其中x=0.45~0.55,y=0.03~0.15,x,y为原子比率;所述的耐磨涂层呈长短不一的柱状晶生长结构,每个柱状晶的宽度为40~150nm,柱状晶的长宽比为15~55,沿涂层生长方向,在所述柱状晶长度的30~75%处出现了分离存在孔隙,孔隙宽度为2~10nm;所述耐磨涂层采用磁控反应溅射法制备,具体步骤包括:(1)基体清洗;(2)连接电源:将Si靶与射频辅助的直流电源相连,Cr靶与中频电源相连;(3)涂层沉积:将清洗后的基体装入真空腔室中,当腔室的真空度为5.6×10‑6~5×10‑5Pa时,充入氩气与氮气的混合气体,并控制总气压为0.5~1.0Pa,调整靶材的溅射功率密度为3.6~8.5W/cm2,之后开启样品挡板,对基体的表面进行沉积,得到具有硬度宽变的耐磨涂层。
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