[发明专利]ALD覆层设备在审
| 申请号： | 201610806062.0 | 申请日： | 2013-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN106399969A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·波普;马克·菲利彭斯 | 申请（专利权）人： | 欧司朗OLED股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 丁永凡,张春水 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出一种ALD覆层设备。ALD覆层设备(100)具有用于金属有机的初始材料(6)的储存容器(1)；和包括调节阀(3)、压力表(4)、压力隔板(5)和第一多通阀(10)的装置(2)，其中装置(2)设置在储存容器(1)的下游，并且第一多通阀(10)能够在处理室(7)和收集室(8)之间切换。 | ||
| 搜索关键词： | ald 覆层 设备 | ||
【主权项】：
一种ALD覆层设备(100)，所述ALD覆层设备具有：‑用于金属有机的初始材料(6)的储存容器(1)；和‑包括调节阀(3)、压力表(4)、压力隔板(5)和第一多通阀(10)的装置(2)，其中‑所述装置(2)设置在所述储存容器(1)的下游，并且‑所述第一多通阀(10)能够在处理室(7)和收集室(8)之间切换，其中‑在所述储存容器(1)和所述装置(2)之间设置有第二多通阀(20)，并且‑在所述装置(2)和所述收集室(8)之间设置有第三多通阀(30)，‑所述第二多通阀(20)与所述第三多通阀(30)连接，并且‑经由所述第二多通阀(20)和所述第三多通阀(30)实现将所述金属有机的初始材料(6)的分解产物直接引出到所述收集室(8)中。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
