[发明专利]立式磁控溅射真空镀膜防绕镀方法及基片夹具在审
| 申请号： | 201610659072.6 | 申请日： | 2016-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN106191798A | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 赵斌 | 申请（专利权）人： | 深圳市微纳科学技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 深圳市中知专利商标代理有限公司 44101 | 代理人： | 吕晓蕾 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区松岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种立式磁控溅射真空镀膜防绕镀方法及基片夹具，它属于真空镀膜技术领域，所述的基片夹具是一个下部设置有开口向下的下卡槽，上部设置有三个开口向上的上卡槽的线性夹具；利用所述的基片夹具，将需要进行镀膜的镀膜基板的非镀膜面背靠背迭齐，并将其下端一并卡入真空镀膜基片夹具的上卡槽中；然后再将位于镀膜设备下端的基片架横杆卡入真空镀膜基片夹具的下卡槽中，用螺丝固定；镀膜基板的上端卡入上基片架中；然后进行常规溅射。本发明利用结构简单的基片夹具和现有的立式连续磁控溅射真空镀膜线实现对非镀膜面的无绕镀镀膜，镀膜基片更换的简单、快速，节省大量的基片更换时间。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 磁控溅射 真空镀膜 防绕镀 方法 夹具 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜基片夹具，其特征在于它是一个下部设置有开口向下的下卡槽，上部设置有三个开口向上的上卡槽的线性夹具。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市微纳科学技术有限公司，未经深圳市微纳科学技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610659072.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：选择性生长立式石墨稀的制备方法
- 下一篇：一种硅化铁薄膜及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
