[发明专利]联薁二酰亚胺衍生物、其制备方法和应用有效
申请号: | 201610554416.7 | 申请日: | 2016-07-14 |
公开(公告)号: | CN107619409B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 高希珂;辛涵申;葛从伍;杨晓春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海有机化学研究所 |
主分类号: | C07D487/06 | 分类号: | C07D487/06;C07D493/06;C07C61/39;C07C69/753;C07C233/58;H01L51/54 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;袁红 |
地址: | 200032 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明公开了一种联薁二酰亚胺衍生物、其制备方法和应用。本发明的联薁二酰亚胺衍生物具有不同的能级、大π共轭体系和柔性促溶的烷基链,可以用溶液加工的方法低成本制备有机电子器件;同时本发明的联薁二酰亚胺衍生物制备方法简单,原料易于合成,成本低,得到的目标化合物的纯度高。 |
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搜索关键词: | 联薁二酰 亚胺 衍生物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种通式I所示的联薁二酰亚胺衍生物:
其中,X1和X2独立地为H、卤素、取代或未取代的C6‑C20芳基或取代或未取代的C2‑C20杂芳基;所述的取代的C6‑C20芳基或所述的取代的C2‑C20杂芳基中的取代基为下列基团中的一个或多个:卤素、取代或未取代的C1‑C4烷基或取代或未取代的C6‑C10芳基;所述的取代的C1‑C4烷基中取代基是指被一个或多个卤素所取代:所述的取代的C6‑C10芳基中的取代基是指被下列基团中的一个或多个所取代:卤素、C1‑C4烷基或卤素取代的C1‑C4烷基;R1和R2独立地为H、取代或未取代的C1‑C48烷基、取代或未取代的C2‑C48烯基或取代或未取代的C6‑C24环烷基;其中,所述的取代的C1‑C48烷基、取代的C2‑C48烯基或取代的C6‑C24环烷基中的取代基是指被下列基团中的一个或多个所取代:卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4硅烷基或卤素取代的C1‑C4烷基。
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