[发明专利]掩膜板及设计方法、阵列基板及制作方法、相关显示装置有效

专利信息
申请号: 201610388518.6 申请日: 2016-06-02
公开(公告)号: CN105842980B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 毕鑫;林承武;赵永亮;宁智勇;王兆君;张超 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54;H01L27/12
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种掩膜板及设计方法、阵列基板及制作方法、相关显示装置,用以减小周边电路区包括的薄膜晶体管的沟道长度与显示区包括的薄膜晶体管的沟道长度的差异,提高显示面板的特性。掩膜板用于对阵列基板曝光,包括对阵列基板的显示区曝光的第一区域和对阵列基板的周边电路区曝光的第二区域,第一区域包括若干第一半透光区域,第二区域包括若干第二半透光区域,其中,第二半透光区域在预设方向上的长度值与第一半透光区域在预设方向上的长度值的差值小于零;预设方向为与阵列基板上设置的薄膜晶体管的沟道长度垂直的方向。
搜索关键词: 掩膜板 设计 方法 阵列 制作方法 相关 显示装置
【主权项】:
一种掩膜板,用于对阵列基板曝光,包括对阵列基板的显示区曝光的第一区域和对阵列基板的周边电路区曝光的第二区域,所述第一区域包括若干第一半透光区域,所述第二区域包括若干第二半透光区域,其特征在于,所述第二半透光区域在预设方向上的长度值与所述第一半透光区域在预设方向上的长度值的差值小于零;所述预设方向为与所述阵列基板上设置的薄膜晶体管的沟道长度垂直的方向。
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