[发明专利]一种大尺寸高纯铜平面靶材的制备方法在审
| 申请号： | 201610314384.3 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN105887028A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 高建杰;崔冬乐;孔雪;孙虎民 | 申请（专利权）人： | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22F1/08 |
| 代理公司： | 郑州知己知识产权代理有限公司 41132 | 代理人： | 季发军 |
| 地址： | 471000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种大尺寸高纯铜平面靶材的制备方法，包括对铜坯进行镦粗拔长、锻打成长方体铜锻坯、第一次退火处理；接着热轧、第二次退火处理，即得铜靶材。本发明制备的铜靶材尺寸大，内部组织均匀、无缺陷，晶粒尺寸小于100μm，性能优异，可广泛应用于平面显示器领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 高纯 平面 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种大尺寸高纯铜平面靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将圆柱体铜锭坯进行镦粗拔长；（2）将步骤（1）撴粗拔长后的铜锭坯锻打成长方体铜锻坯；（3）将步骤（2）长方体铜锻坯进行第一次退火处理；（4）将步骤（3）第一次退火处理后的长方体铜锻坯热轧，得到铜板坯；（5）将步骤（4）铜板坯进行第二次退火处理，即得铜靶材。
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