[发明专利]金属键结的发光二极管及形成金属键结发光二极管的方法有效

专利信息
申请号: 201610297576.8 申请日: 2016-05-06
公开(公告)号: CN107346798B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 龚正;陈怡宏;梁永隆 申请(专利权)人: 鼎元光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种金属键结的发光二极管,包括基板、第一接合金属层、第二接合金属层、导电氧化层以及外延层。第一接合金属层,形成于基板上。第二接合金属层形成于第一接合金属层上。导电氧化层形成于第二接合金属层上。外延层形成于导电氧化层上。本发明更包括一种形成金属键结发光二极管的方法,包括下列步骤:设置第一基板;形成第一接合金属层于第一基板上;设置第二基板;形成外延层于第二基板上;形成导电氧化层于外延层上;形成第二接合金属层于导电氧化层上;键结第一接合金属层及第二接合金属层;以及移除第二基板。
搜索关键词: 金属键 发光二极管 形成 结发 二极管 方法
【主权项】:
1.一种金属键结的发光二极管,其特征在于,包括:一基板;一第一接合金属层,形成于该基板上,该第一接合金属层包括:一湿润层,形成于该基板上,该湿润层包括钛或铬;一阻障层,形成于该湿润层上,该阻障层包括钯;及一导接层,形成于该阻障层上;一第二接合金属层,形成于该第一接合金属层的导接层上;一导电氧化层,形成于该第二接合金属层上;一外延层,形成于该导电氧化层上;以及一不导电氧化层,设置于该外延层及该导电氧化层之间,该不导电氧化层包括至少一接孔,该接孔连通该外延层及该导电氧化层,该接孔为一金属材料,包括金锌、金铍、铬或金。
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