[发明专利]易锈蚀金属件表面类金刚石薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了易锈蚀金属件表面类金刚石薄膜及其制备方法。该制备方法是先对金属表面预处理，去除表面污染物；然后将预处理后的金属固定在工件架上，采用离子源轰击清洗样品表面；制备0.1‑0.5微米的过渡层；制备1‑3微米厚度的a‑C：HDLC层。本发明不同于传统制备DLC涂层制备，提高了碳氢化合物的离化率，合理地提高了基体温度，提高了吸附粒子在表面的扩散可动性，使碳离子向沟槽或凹坑处移动，利于生成致密的膜，即使金属表面是拉丝/喷砂的非光滑面，本发明所获得涂层仍然具有优异的耐蚀性能和膜基附着力。

主权项

1.易锈蚀金属件表面类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)拉丝/喷砂碳钢金属工件表面预处理：去除表面污染物；2)将预处理后的工件固定在工件架上，采用离子源轰击清洗样品表面；3)制备过渡层：调整磁控靶源的氩气流量，使真空室压强保持为0.5‑1Pa；开启非对称双极脉冲偏压模式，频率为300‑1000Hz，负脉冲峰值为50‑150V，正脉冲峰值为10‑20V，占空比为30‑80％；同时开启磁控溅射源和离子源，磁控源电流为20‑40A，低压直流弧束流为20‑40A；在工件表面制备0.1‑0.5微米的过渡层后关闭磁控靶；4)制备类金刚石层：调整非对称双极脉冲偏压的正负脉冲峰值，负脉冲峰值为500‑1000V，正脉冲峰值为20‑100V，频率为300‑1000Hz，占空比为30‑80％；通入碳氢化合物气体，控制碳氢化合物气体分压为0.4‑1.0Pa，在工件表面沉积a‑C：H类金刚石涂层。