[发明专利]耐弯折透明硫化铜导电膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201610273823.0 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105702319A | 公开（公告）日： | 2016-06-22 |
| 发明（设计）人： | 郭文熹;潘曹峰;张晓佳;刘向阳 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | H01B1/10 | 分类号： | H01B1/10;H01B13/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 耐弯折透明硫化铜导电膜及其制备方法，涉及柔性透明导电膜制备。所述耐弯折透明硫化铜导电膜由柔性透明薄膜和网络状的CuS导电膜组成，其方阻值Rs≤20Ω/sq，可见光的透光率T≥80％。所述耐弯折透明硫化铜导电膜的制备方法，包括以下步骤：1)通过静电纺丝技术在收集器上纺一层网状的聚乙烯醇细丝；2)通过磁控溅射技术，在步骤1)所得的细丝表面溅射一层Cu膜，取出后，转移至不同柔性基底表面，将导电膜浸泡于纯水中，去掉PVA模板，烘干，得薄膜；3)将步骤2)中所得的薄膜置于S的饱和乙醇溶液中进行硫化反应后，取出，洗涤烘干，即得耐弯折透明硫化铜导电膜。工艺简单，成本较低，容易实现大规模的生产。 | ||
| 搜索关键词： | 耐弯折 透明 硫化铜 导电 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
耐弯折透明硫化铜导电膜，其特征在于由柔性透明薄膜和网络状的CuS导电膜组成，其方阻值Rs≤20Ω/sq，可见光的透光率T≥80％。
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