[发明专利]双波长光学系统及等离子体流场的电子数密度测量方法在审
| 申请号： | 201610162028.4 | 申请日： | 2016-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN105784317A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 陈云云;赵德林;钟霞;胡永正 | 申请（专利权）人： | 南京信息工程大学 |
| 主分类号： | G01M9/06 | 分类号： | G01M9/06 |
| 代理公司： | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人： | 戴朝荣 |
| 地址： | 210044 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双波长光学系统。所述双波长光学系统包括探测光源组件、等离子体流场、莫尔条纹生成组件、第一图像传感器、第二图像传感器和同步外触发器，所述探测光源组件提供分别具有第一波长和第二波长的第一光束和第二光束，所述第一光束和所述第二光束穿过所述等离子体流场，并分别在所述莫尔条纹生成组件内形成第一莫尔条纹和第二莫尔条纹；所述第一图像传感器和所述第二图像传感器分别与所述同步外触发器电连接，并分别记录所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹，所述同步外触发器接收并根据所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹计算所述等离子体流场的电子数密度。本发明还提供一种等离子体流场的电子数密度测量方法。 | ||
| 搜索关键词： | 波长 光学系统 等离子体 电子 密度 测量方法 | ||
【主权项】：
一种双波长光学系统，其特征在于，包括探测光源组件、等离子体流场、莫尔条纹生成组件、第一图像传感器、第二图像传感器和同步外触发器，所述探测光源组件提供分别具有第一波长和第二波长的第一光束和第二光束，所述第一光束和所述第二光束穿过所述等离子体流场，并分别在所述莫尔条纹生成组件内形成第一莫尔条纹和第二莫尔条纹；所述第一图像传感器和所述第二图像传感器分别与所述同步外触发器电连接，并分别记录所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹，所述同步外触发器接收并根据所述第一莫尔条纹和所述第二莫尔条纹计算所述等离子体流场的电子数密度。
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