[发明专利]测量层间粘合层的拉伸模式的粘合力的方法和设备有效
申请号: | 201610115735.8 | 申请日: | 2016-03-01 |
公开(公告)号: | CN105938806B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 申东吉;尹喆根;姜敃圭;李圭济 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司;岭南大学校产学协力团 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小东 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及测量层间粘合层的拉伸模式的粘合力的方法和设备。该方法包括:提供受测器件,该受测器件包括下测试层和层叠在下测试层上并且包括悬伸部的上测试层,该悬伸部超过所述下测试层的边缘突出预定长度;将所述下测试层固定到安装台上;以及通过在第一方向上向所述上测试层的所述悬伸部的底表面施加载荷,测量层间粘合层的拉伸模式的粘合力。该设备包括:安装台,该安装台固定所述受测器件;载荷施加端头,该载荷施加端头向所述悬伸部的底表面施加载荷;位置调节器,该位置调节器调节所述受测器件和所述载荷施加端头之间的距离;测压元件,该测压元件检测已施加载荷的大小;以及控制器,该控制器控制所述位置调节器和所述测压元件。 | ||
搜索关键词: | 测量 粘合 拉伸 模式 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种测量用于层叠半导体器件的层间粘合层的粘合力的方法,该方法包括:提供受测器件,该受测器件包括:下测试层;上测试层,该上测试层层叠在所述下测试层上并且包括悬伸部,该悬伸部超过所述下测试层的边缘突出预定长度;以及所述层间粘合层,该层间粘合层布置在所述下测试层和所述上测试层之间并且接合至所述下测试层和所述上测试层;将所述下测试层固定到安装台上;以及通过在第一方向上向所述上测试层的所述悬伸部的底表面施加载荷,测量所述层间粘合层的拉伸模式的粘合力。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造