[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法

摘要

本发明涉及化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法。该抗蚀剂组合物包括适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂和含氮羧酸的锍或碘鎓盐，具有高分辨率。采用光刻法，能够形成具有最小LER的图案。

主权项

1.用于高能辐照光刻法的化学增幅型正型抗蚀剂组合物，包括(A)具有通式(1)或(2)的鎓盐化合物和(B)适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的包含具有通式(U‑1)的重复单元的树脂，其中R⁰¹、R⁰²、R⁰³和R⁰⁴各自独立地为氢、‑L‑CO₂^‑、或者直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基，其可以被杂原子取代或被杂原子分隔，或者R⁰¹和R⁰²对、R⁰²和R⁰³对或R⁰³和R⁰⁴对可彼此键合以与它们结合的碳原子形成环，L为单键或者直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀二价烃基，其可被杂原子取代或被杂原子分隔，R⁰⁵为氢或者直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基，其可被杂原子取代或被杂原子分隔，R⁰⁶、R⁰⁷、R⁰⁸、R⁰⁹、R⁰¹⁰和R⁰¹¹各自独立地为氢或者直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基，其可被杂原子取代或被杂原子分隔，或者R⁰⁶和R⁰⁷对可彼此键合以与它们结合的碳原子形成环，R⁰⁸和R⁰¹¹对可彼此键合以与它们结合的碳原子和任何介于其间的碳原子形成环，或者R⁰⁹和R⁰¹⁰对可彼此键合以与氮原子形成环，j为0或1，k为下述范围内的数：j＝0时0≤k≤1，或者j＝1时0≤k≤3，并且Z⁺为通式(a)的锍阳离子或者通式(b)的碘鎓阳离子：其中R¹⁰⁰,R²⁰⁰和R³⁰⁰各自独立地为直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基，其可被杂原子取代或被杂原子分隔，或者R¹⁰⁰、R²⁰⁰和R³⁰⁰中的任意两个或更多个可彼此键合以与硫原子形成环，R⁴⁰⁰和R⁵⁰⁰各自独立地为直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基，其可被杂原子取代或被杂原子分隔，由式：表示的部分结构是具有介于其间的氮原子的环状结构，其中与形成环状结构的碳原子键合的氢原子可被直链的C₁‑C₂₀、支化或环状的C₃‑C₂₀一价烃基或‑L‑CO₂^‑取代，或者其中形成环状结构的碳原子可以被硫、氧或氮替代，条件是一个取代基：‑L‑CO₂^‑必须包括在式(1)中，其中q为0或1，r为0‑2的整数，R¹为氢、氟、甲基或三氟甲基，R²各自独立地为氢或者C₁‑C₆烷基，B¹为单键或可含有醚键的C₁‑C₁₀亚烷基，a为满足a≤5+2r‑b的整数，和b为1‑3的整数。