[发明专利]一种化学机械抛光液及其制备方法

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液及其制备方法，按照重量份的原料包括：磷酸15-30份、四硼酸钠10-20份、硅酸钠10-20份、碳酸氢钠10-20份、柠檬酸钠10-20份、去离子水25-45份、滑石粉10-15份、碳酸钙8-10份、氧化剂1-10份、液态石蜡5-10份、缓蚀剂2-10份、表面活性剂1-10份、pH调节剂1-9份、高岭土1-3份、硅藻土1-2份、片层结构的云母粉1-2份、空心玻璃微珠1-2份。上述原料经搅拌加热混合，即得所述的化学机械抛光液，本发明抛光效果好，抛光速率提高；对半导体芯片表面无伤害；安全无毒，无有害气体；可减少被抛光材料的表面污染物。

主权项

一种化学机械抛光液，其特征在于，按照重量份的原料包括：磷酸15‑30份、四硼酸钠10‑20份、硅酸钠10‑20份、碳酸氢钠10‑20份、柠檬酸钠10‑20份、去离子水25‑45份、滑石粉10‑15份、碳酸钙8‑10份、氧化剂1‑10份、液态石蜡5‑10份、缓蚀剂2‑10份、表面活性剂1‑10份、pH调节剂1‑9份、高岭土1‑3份、硅藻土1‑2份、片层结构的云母粉1‑2份、空心玻璃微珠1‑2 份。