[发明专利]一种化学机械抛光液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610086885.0 申请日: 2016-02-16
公开(公告)号: CN105623526A 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 章建群;章慧云;黄晓伟;刘华;龚建国 申请(专利权)人: 章建群
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C23F3/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330000 江西省南*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光液,其特征在于,按照重量份的原料包括:磷酸15-30份、四硼酸钠10-20份、硅酸钠10-20份、碳酸氢钠10-20份、柠檬酸钠10-20份、去离子水25-45份、滑石粉10-15份、碳酸钙8-10份、氧化剂1-10份、液态石蜡5-10份、缓蚀剂2-10份、表面活性剂1-10份、pH调节剂1-9份、高岭土1-3份、硅藻土1-2份、片层结构的云母粉1-2份、空心玻璃微珠1-2份。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,按照重量份的原料包括:磷酸15-30份、四硼酸钠15份、硅酸钠15份、碳酸氢钠15份、柠檬酸钠15份、去离子水35份、滑石粉12.5份、碳酸钙9份、氧化剂5.5份、液态石蜡7.5份、缓蚀剂6份、表面活性剂5.5份、pH调节剂5份、高岭土2份、硅藻土1.5份、片层结构的云母粉1.5份、空心玻璃微珠1.5份。

3.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述氧化剂为高锰酸钾。

4.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述pH调节剂为碳酸钠和乙酸。

5.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述缓蚀剂为二邻甲苯基硫脲、三乙胺和三丙胺的混合溶液。

6.一种如权利要求1-5任一所述的化学机械抛光液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将磷酸、四硼酸钠、硅酸钠、碳酸氢钠、柠檬酸钠、滑石粉、碳酸钙、液态石蜡、缓蚀剂、高岭土、硅藻土、片层结构的云母粉、空心玻璃微珠溶于去离子水中,边水浴加热边磁力搅拌;

(2)向步骤(1)制得的溶液中加入氧化剂、缓蚀剂、表面活性剂,搅拌混匀后自然降至室温;

(3)向步骤(2)制得的溶液中加入适量的pH调节剂,将溶液pH调至7.5-8.9;即可获得所述的化学机械抛光液。

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