[发明专利]一种化学机械抛光液及其制备方法在审
申请号: | 201610086885.0 | 申请日: | 2016-02-16 |
公开(公告)号: | CN105623526A | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 章建群;章慧云;黄晓伟;刘华;龚建国 | 申请(专利权)人: | 章建群 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C23F3/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 330000 江西省南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 及其 制备 方法 | ||
1.一种化学机械抛光液,其特征在于,按照重量份的原料包括:磷酸15-30份、四硼酸钠10-20份、硅酸钠10-20份、碳酸氢钠10-20份、柠檬酸钠10-20份、去离子水25-45份、滑石粉10-15份、碳酸钙8-10份、氧化剂1-10份、液态石蜡5-10份、缓蚀剂2-10份、表面活性剂1-10份、pH调节剂1-9份、高岭土1-3份、硅藻土1-2份、片层结构的云母粉1-2份、空心玻璃微珠1-2份。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,按照重量份的原料包括:磷酸15-30份、四硼酸钠15份、硅酸钠15份、碳酸氢钠15份、柠檬酸钠15份、去离子水35份、滑石粉12.5份、碳酸钙9份、氧化剂5.5份、液态石蜡7.5份、缓蚀剂6份、表面活性剂5.5份、pH调节剂5份、高岭土2份、硅藻土1.5份、片层结构的云母粉1.5份、空心玻璃微珠1.5份。
3.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述氧化剂为高锰酸钾。
4.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述pH调节剂为碳酸钠和乙酸。
5.根据权利要求1或2所述的化学机械抛光液,其特征在于,所述缓蚀剂为二邻甲苯基硫脲、三乙胺和三丙胺的混合溶液。
6.一种如权利要求1-5任一所述的化学机械抛光液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将磷酸、四硼酸钠、硅酸钠、碳酸氢钠、柠檬酸钠、滑石粉、碳酸钙、液态石蜡、缓蚀剂、高岭土、硅藻土、片层结构的云母粉、空心玻璃微珠溶于去离子水中,边水浴加热边磁力搅拌;
(2)向步骤(1)制得的溶液中加入氧化剂、缓蚀剂、表面活性剂,搅拌混匀后自然降至室温;
(3)向步骤(2)制得的溶液中加入适量的pH调节剂,将溶液pH调至7.5-8.9;即可获得所述的化学机械抛光液。
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