[发明专利]一种单根磁致伸缩微管制备方法有效

专利信息
申请号: 201610062761.9 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN105714257B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 张克维;傅丽玲;房大庆 申请(专利权)人: 太原科技大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司14101 代理人: 江淑兰
地址: 030024 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 一种单根磁致伸缩微管的制备方法,属于传感器装置技术领域,其特征是由以下步骤依次进行(一)、快速溶解镁合金芯上磁控溅射磁致伸缩层;(二)、单根磁致伸缩管制备将前步(一)制得的表面溅射有磁致伸缩层的镁合金丝放入96℃、质量分数为4%的KCl溶液中,待快速溶解镁合金丝完全溶解,得到内径为0.1~10µm,壁厚为1~10µm单根磁致伸缩管。本发明无需切割直接成形微小的磁致伸缩单根管,避免对磁致伸缩管切割造成管腔堵塞,提高了磁致伸缩微管的尺寸精度的同时,灵敏度较同长度和同直径的实心线材高5.7倍,能更好地满足传感器灵敏度的使用要求。
搜索关键词: 一种 单根磁致 伸缩 微管 制备 方法
【主权项】:
一种单根磁致伸缩微管制备方法,其特征是由以下步骤依次进行:(一)、快速溶解镁合金芯上磁控溅射磁致伸缩层1)、将快速溶解镁合金制成5~30mm长、直径为0 .1~10µm的丝;2)、将镁合金丝放置于磁控溅射仪腔体内的基座上,采用磁控溅射法,对镁合金丝表面溅射磁致伸缩薄膜,得到镁合金丝表面溅射有厚度为1~10µm厚的磁致伸缩薄膜;(二)、单根磁致伸缩管制备将前步(一)制得的表面溅射有磁致伸缩层的镁合金丝放入97℃、质量分数为4%的KCl溶液中,待快速溶解镁合金丝完全溶解,得到内径为0 .1~10µm,壁厚为1~10µm单根磁致伸缩管。
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