[发明专利]电路板的真空预润方法与装置在审
申请号: | 201610040331.7 | 申请日: | 2016-01-20 |
公开(公告)号: | CN106061115A | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 王彦智;洪俊雄 | 申请(专利权)人: | 台湾先进系统股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/38 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;郑泰强 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的实施例公开一电路板的真空预润方法,包含:将一待预润的电路板置入一真空装置内;开始将该真空装置进行抽真空;当该真空装置内的气压小于一气压门槛值,注入去离子水(de-ionized water,DIW);待注入的去离子水完全覆盖该电路板时,停止注入去离子水,并静置一预设时间;当达到该预设时间时,解除真空,让该去离子水流出,并取出该电路板。 | ||
搜索关键词: | 电路板 真空 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种电路板的真空预润方法,适用于一电路板工艺的预润步骤,配合一真空预润装置操作,该方法包含:将至少一待预润的电路板置入该真空预润装置内;开始将该真空预润装置进行抽真空;当该真空预润装置内的气压小于一气压门槛值,注入去离子水;待注入的去离子水完全覆盖该电路板时,停止注入去离子水,并静置一预设时间;以及当达到该预设时间时,解除该真空预润装置内的真空,让该去离子水自该真空预润装置内流出,并取出至少一该电路板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾先进系统股份有限公司,未经台湾先进系统股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610040331.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种含Al高模量低温回火合金钢及制备方法
- 下一篇:电池和电池用正极材料