[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201610038639.8 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN105549333B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 宋烨 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。本发明中，以显示器作为曝光装置的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器上，经过凸透镜组件的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜，所述曝光装置还包括至少一个光栅结构，每一所述光栅结构位于一个凸透镜的下方，所述曝光装置还包括壳体，所述凸透镜组件及所述至少一个光栅结构设置于所述壳体内，所述壳体用于吸收周围环境的光线。
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