[发明专利]一种利用粒子束调控技术制备多孔掺杂类金刚石薄膜的方法有效
申请号: | 201610037867.3 | 申请日: | 2016-01-21 |
公开(公告)号: | CN105779965B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 张旭;周晗;吴先映;廖斌;英敏菊 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100875 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种利用粒子束调控技术制备掺杂多孔类金刚石(DLC)薄膜的方法,属于无机纳米材料领域。该发明利用磁过滤阴极弧沉积装置,以镍源为阴极,以含碳气体为前驱气体,在一定的粒子束参数条件下沉积碳基镍纳米复合薄膜,其结构为镍金属颗粒分散在周围的非晶碳相中,仅有少量的镍原子掺杂在非晶碳相中。将制备好的薄膜材料用化学溶液腐蚀,去除薄膜中的镍金属相而保留非晶碳相和其中掺杂的镍原子,用去离子水冲洗后即可得到掺杂多孔DLC薄膜。通过对实验中的粒子束参数进行控制,即实现孔隙直径、孔隙密度、薄膜中SP3键相对含量以及掺杂量均可调控的掺杂多孔DLC薄膜材料。该方法操作简单,制备周期短并可实现掺杂多孔DLC薄膜材料的大批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 粒子束 调控 技术 制备 多孔 掺杂 金刚石 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种利用粒子束调控技术制备多孔掺杂DLC薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤:步骤1、利用磁过滤阴极弧沉积装置以镍为阴极弧源,以含碳气体为前驱气体,在一定的参数条件和真空度下,以单晶硅为衬底制备包含面心立方的金属镍晶粒的Ni/DLC纳米复合薄膜;步骤2、用盐酸或者硝酸溶液腐蚀Ni/DLC纳米复合薄膜,控制腐蚀时间,得到所述的多孔掺杂DLC薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的