[发明专利]光阻涂布装置及光阻涂布方法在审

专利信息
申请号: 201610033569.7 申请日: 2016-01-18
公开(公告)号: CN105457843A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 王雷 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/02;G03F7/16
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种光阻涂布装置及光阻涂布方法。本发明提供的光阻涂布方法,采用垂直整面吐胶方式进行,通过涂布喷头上设置的密集排布的针状的吐胶喷嘴向基板表面上吐胶,此时,在重力以及表面张力作用下光阻胶会在基板表面自然流平形成薄膜,随后通过不断补胶而垂直牵引薄膜生长,当在基板表面上形成的薄膜的厚度达到预定范围时,控制数个吐胶喷嘴停止吐胶,完成垂直整面吐胶动作;该光阻涂布方法,相比于现有的水平涂布方式的光阻涂布方法,在保证吐胶均匀性以及膜厚稳定性的情况下,大大减少了涂布时间,从而提高了产能。
搜索关键词: 光阻涂布 装置 方法
【主权项】:
一种光阻涂布装置,用于在基板(10)上涂布光阻膜层,包括涂布喷头,其特征在于,所述涂布喷头包括喷头本体(50)、及阵列排布于所述喷头本体(50)底面上的数个针状的吐胶喷嘴(51);所述喷头本体(50)用于容纳光阻胶,使用时,数个吐胶喷嘴(51)同时从竖直方向上向水平放置的基板(10)进行吐胶,在重力以及表面张力作用下光阻胶在基板(10)的表面上自然流平而形成薄膜,通过吐胶喷嘴(51)不断吐胶而使薄膜的厚度增加。
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