[发明专利]膜层及其制备方法、基板、显示装置有效
| 申请号： | 201610005364.8 | 申请日： | 2016-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN105511221B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 史高飞;沈奇雨;赵娜;王一军;许徐飞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 11348 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 王伟锋;刘铁生<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种膜层的制备方法，通过设有光过渡区的掩膜板对所述膜层进行刻蚀，使所述膜层的边缘坡度角为30°‑50°。通过采用本发明所提供的膜层制备方法，减小了膜层边缘的坡度角，有效防止了由于膜层段差过大，导致后续工艺进行时PR胶残留导致的DDS不良。通过调节透光区域的面积，可以调节形成的膜层的边缘坡度角。另外，采用拐角为弧形以及拐角处设有狭缝的掩膜板，增大了拐角处的光强，消除了曝光死角，有效减小了拐角处的膜层的边缘坡度角，防止了PR胶残留导致的DDS不良，提高了显示装置的画面品质。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制备 方法 基板 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜层的制备方法，其特征在于，通过设有光过渡区的掩膜板对所述膜层进行刻蚀，使所述膜层的边缘坡度角为30°-50°；/n所述光过渡区设在所述掩膜板的边缘；/n所述光过渡区包括均匀排列的多个透光区域和多个遮光区域，所述透光区域和所述遮光区域间隔排列；/n靠近所述掩膜板的边缘一侧的所述透光区域的面积大于远离所述掩膜板的边缘一侧的所述遮光区域的面积；/n靠近所述掩膜板的边缘一侧的所述遮光区域的面积小于远离所述掩膜板的边缘一侧的所述透光区域的面积；/n所述掩膜板的拐角为弧形，所述掩膜板的拐角处设有若干条平行排列的狭缝。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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