[发明专利]膜层及其制备方法、基板、显示装置有效
| 申请号： | 201610005364.8 | 申请日： | 2016-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN105511221B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 史高飞;沈奇雨;赵娜;王一军;许徐飞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 11348 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 王伟锋;刘铁生<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 制备 方法 基板 显示装置 | ||
1.一种膜层的制备方法，其特征在于，通过设有光过渡区的掩膜板对所述膜层进行刻蚀，使所述膜层的边缘坡度角为30°-50°；
所述光过渡区设在所述掩膜板的边缘；
所述光过渡区包括均匀排列的多个透光区域和多个遮光区域，所述透光区域和所述遮光区域间隔排列；
靠近所述掩膜板的边缘一侧的所述透光区域的面积大于远离所述掩膜板的边缘一侧的所述遮光区域的面积；
靠近所述掩膜板的边缘一侧的所述遮光区域的面积小于远离所述掩膜板的边缘一侧的所述透光区域的面积；
所述掩膜板的拐角为弧形，所述掩膜板的拐角处设有若干条平行排列的狭缝。
2.根据权利要求1所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述透光区域为使遮光区域形成三角形突起的三角形缺口。
3.根据权利要求1所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述透光区域为设置在所述光过渡区的波浪形缺口。
4.根据权利要求1所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述透光区域为设置在所述光过渡区的通孔。
5.根据权利要求4所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述通孔为半圆形、圆形或矩形。
6.根据权利要求1所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述透光区域为与所述掩膜板的边缘平行的缝隙。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的膜层的制备方法，其特征在于，所述透光区域之间的距离小于曝光机解析度。
8.一种膜层，采用权利要求1-7任意一项所述的制备方法制备而成，其特征在于，所述膜层的边缘坡度角为30°-50°。
9.一种基板，其特征在于，包括权利要求8所述的膜层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的基板。
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