[发明专利]用于在半导体工艺中进行缺陷分类的系统和方法

摘要

本发明提供用于在半导体工艺中进行缺陷分类的系统及方法。所述系统包含：通信线路，其经配置以从所述半导体工艺接收晶片的缺陷图像；及深度架构神经网络，其与所述通信线路进行电子通信。所述神经网络具有第一卷积神经元层，所述第一卷积神经元层经配置以对来自所述缺陷图像的像素与滤子进行卷积以产生第一特征图。所述神经网络还包含第一子取样层，所述第一子取样层经配置以减小所述第一特征图的大小及变化。提供用于基于所述特征图而确定缺陷分类的分类器。所述系统可包含多于一个卷积层及/或子取样层。一种方法包含使用例如卷积神经网络等深度架构神经网络从缺陷图像提取一或多个特征。