[发明专利]投射曝光系统的照明光学单元有效
| 申请号： | 201580050425.6 | 申请日： | 2015-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN106716254B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉;S.比林;M.德冈瑟;R.米勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种投射曝光系统(1)的照明光学单元(17i)，包含多个辐射反射组件，其中所有辐射反射组件布置为使得含照明辐射(5)的光束(10 |
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| 搜索关键词： | 投射 曝光 系统 照明 光学 单元 | ||
【主权项】：
一种将照明辐射(5)引导至物场(11i)的投射曝光系统(1)的照明光学单元(17i)，包含：1.1.多个辐射反射组件，1.2.其中所有辐射反射组件布置为使得在这些组件处以相同方式偏转具有照明辐射(5)的光束(10i)。
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