[发明专利]保护剂组合物和保护剂图案形成方法有效
申请号: | 201580013887.0 | 申请日: | 2015-03-13 |
公开(公告)号: | CN106133604B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 佐藤隆;越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038;C07C39/15;G03F7/004;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的保护剂组合物包含特定的式子所表示的化合物。上述化合物尽管是低分子量,由于其高芳香族性骨架而具有高的耐热性,从而也可在高温烘焙条件下使用。由于如上述那样的构成,本发明的保护剂组合物的耐热性优异、对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度且能够赋予良好的保护剂图案形状。即,本发明的保护剂组合物作为酸扩增型非高分子系保护剂材料是有用的。 | ||
搜索关键词: | 保护 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种保护剂组合物,其包含下述式(1)所表示的化合物,
式(1)中,R1为碳原子数1~30的由RA‑RB所表示的基团;此处,该RA为次甲基,该RB为碳原子数7以上的芳基;R2~R5分别独立地为碳原子数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数6~10的芳基、碳原子数2~10的烯基、巯基或羟基;此处,R4的至少一个和/或R5的至少一个为羟基和/或巯基;m2和m3分别独立地为0~8的整数;m4和m5分别独立地为0~9的整数;此处,m4和m5的至少一个为1~9的整数;n为1;p2~p5分别独立地为0~2的整数。
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