[实用新型]一种防止玻璃光罩金属图层静电击伤的装置有效
| 申请号： | 201520196720.X | 申请日： | 2015-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN204479905U | 公开（公告）日： | 2015-07-15 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 广州市仕元光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/40 | 分类号： | G03F1/40 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 510730 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种防止玻璃光罩金属图层静电击伤的装置，包括：用于平整PET防静电膜并能够将其贴附到玻璃光罩上的主动辊轴、用于安装PET防静电膜的被动辊轴、以及用于驱动主动辊轴运转的驱动装置，主动辊轴和被动辊轴之间由PET防静电膜连接，被动辊轴的运转则由主动辊轴通过PET防静电膜带动。本实用新型所述一种防止玻璃光罩金属图层静电击伤的装置，通过设置主动辊轴、被动辊轴、以及驱动装置，使得PET防静电膜可以自动贴附到玻璃光罩上,实现防止玻璃光罩金属图层静电击伤的功能。克服了背景技术中所述手工贴附保鲜膜时可操作性差且容易在保鲜膜和玻璃光罩之间形成气泡的弊端。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 玻璃 金属 静电 击伤 装置 | ||
【主权项】：
一种防止玻璃光罩金属图层静电击伤的装置，其特征在于，所述装置包括：用于平整PET防静电膜并能够将所述PET防静电膜贴附到玻璃光罩上的主动辊轴、用于安装所述PET防静电膜的被动辊轴、以及用于驱动所述主动辊轴运转的驱动装置，所述主动辊轴和所述被动辊轴之间由所述PET防静电膜连接，所述被动辊轴的运转则由所述主动辊轴通过所述PET防静电膜带动。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
