[发明专利]高分辨率X射线转换屏荧光材料的填充方法

摘要

本发明公开了一种高分辨率X射线转换屏荧光材料的填充方法，包括清洗转换屏基底并烘干；将转换屏基底表面及深孔侧壁氧化得二氧化硅薄膜；浸润材料溶入挥发性溶剂得1％‑10％浸润溶液；抽真空在转换屏基底上覆盖浸润溶液并振荡、静置；或将浸润溶液滴在转换屏基底表面使浸润充分；转换屏基底加热至干燥，静置至常温取出；将填充材料CsI(Tl)均匀覆盖在转换屏基底表面，真空下熔化CsI(Tl)，将熔化的CsI(Tl)填充至转换屏基底的深孔阵列底部，保持CsI(Tl)熔化状态，待CsI(Tl)进入深孔后，将转换屏基底倾斜，其表面上残留的CsI(Tl)流出表面；降至常温后，在干燥环境下封装转换屏基底。本发明的填充方法可以做到填充完全，填充后转换屏基底表面清洁。

主权项

一种高分辨率X射线转换屏荧光材料的填充方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、清洗：对已刻蚀出高深宽比深孔阵列结构的转换屏基底进行清洗并烘干表面及深孔内部残留液体；(2)、氧化：在清洗后的转换屏基底表面及深孔侧壁上氧化获得一层均匀的二氧化硅薄膜；(3)、制浸润溶液：将浸润材料溶解于挥发性溶剂中并不断搅拌，直至混合均匀，得到浓度为1％‑20％浸润溶液；(4)、浸润：将步骤(2)氧化的转换屏基底进行抽真空处理后，在转换屏基底表面倒入浸润溶液浸润，对转换屏基底超声振荡至少1min，然后保持深孔开口向上静置至少1min使得浸润充分；或者将浸润溶液均匀滴加在转换屏基底表面使其浸润充分；将转换屏基底在50‑300℃下加热至少10min至干燥，然后静置待温度降至常温时取出；(5)填充：在转换屏基底表面均匀覆盖一层CsI(Tl)粉末，真空下熔化填充材料CsI(Tl)，熔化的CsI(Tl)填充至转换屏基底的深孔中，保持CsI(Tl)熔化状态至少1min；待CsI(Tl)进入深孔后将转换屏基底倾斜，以使在转换屏基底表面上残留的CsI(Tl)流出表面，以保持转换屏基底表面清洁；(6)封装：降至常温后，取出填充后的转换屏基底，并在干燥环境下封装。