[发明专利]一种大豆根瘤病菌抑制剂的制备方法

摘要

本发明涉及一种大豆根瘤病菌抑制剂的制备方法，属于农业领域。本发明针对目前大豆植株根部容易感染，造成主要危害大豆根系发育，影响作物对水分和营养物质的吸收，造成大豆减产和植株死亡的问题，提供了一种通过培养大豆植株，提取大豆植株根部分泌产物作为病菌抑制剂的方法，有效地抑制了大豆根部病原菌的生长和繁殖，每亩产量比未施加大豆根瘤病菌抑制剂稀释液的大豆产量提高了5～10％。

主权项

一种大豆根瘤病菌抑制剂的制备方法，其特征在于具体制备步骤为：（1）选取颗粒饱满，大小均一的大豆种子，将其置于去离子水中浸泡2～3h后，取出并用质量浓度为10％的过氧化氢溶液消毒20～30min，待消毒处理完成后，用去离子水冲洗3～5次，将其置于不断通入氧气的饱和的硫酸钙溶液中，浸泡3～5h；（2）待种子在通入氧气的饱和的硫酸钙溶液中，吸胀至体积为原有体积的1.5倍时，将其取出并置于用蒸馏水润湿的直径为7cm滤纸上，每张滤纸放置3～5粒种子，将放置了种子的滤纸置于黑暗中催芽，待种子露白时，将其置于在170～190℃下消毒过的石英砂基质中，每隔3天对按3株10mL的量对其定量浇水，待其生长10～15天后定苗，每盆留苗10株；（3）按重量份数计，选取35～65份的去离子水、15～25份的硝酸钾、5～15份的硫酸镁和15～25份的硝酸钙，将其按顺序混合搅拌至其完全溶解，配置得植物营养液，按每盆100～150mL植物营养液计，每天中午12点对其施肥处理，培养至花荚期；（4）待大豆大豆植株培养至花荚期后，将其置于早晨阳光下培养2～3h后，用3～5L的去离子水洗涤植株根部和石英砂，去掉植物根系的石英砂吸附的养分离子和非根系分泌物，随后，将其在原有条件下光照培养5～6h；（5）待在原有条件下培养完成后，用2L去离子水淋洗植株根系，并收集淋洗液于烧杯中，并按淋洗液和微生物抑制剂质量比为10:1，加入异噻唑啉酮于上述淋洗液中，并将其置于40～45℃下，对其抽真空旋转蒸发至为原有体积的1/2即可制备得一种大豆根瘤病菌抑制剂。