[发明专利]离散源掩模优化有效
| 申请号： | 201480010206.0 | 申请日： | 2014-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN105008997B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 刘晓峰;拉斐尔·C·豪厄尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述了一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述方法包括提供期望的光瞳轮廓；基于期望的光瞳轮廓计算离散的光瞳轮廓；选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变；以及将所选择的离散的改变应用于所述离散的光瞳轮廓。根据本文公开的各个实施例的方法可以将离散优化的计算成本从O(an)减小到O(n)，其中a为常数并且n为可能导致光瞳轮廓中离散的改变的可调参量的数量。 | ||
| 搜索关键词： | 离散 源掩模 优化 | ||
【主权项】：
一种用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程的方法，所述方法包括：提供期望的光瞳轮廓的步骤；基于期望的光瞳轮廓计算离散的光瞳轮廓的步骤；选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变的步骤；以及将所选择的离散的改变应用于所述离散的光瞳轮廓的步骤，其中选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变的步骤包括计算成本函数的多个梯度，所述多个梯度中的每个梯度相对于在光瞳面上的多个空间离散位置中的一个位置处的光强。
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