[实用新型]小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜设备，其炉体结构为卧式，真空炉体内装有网状滚筒，滚筒的一端固定在后炉壁上并由转轴带动，靶源分别设定在炉体两侧，靶面对准滚筒；镀膜方法为：将小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用真空镀膜设备的滚筒中，抽真空至6-9×10-3pa，开启滚筒转动并继续抽真空至3-6×10-3pa后，通入氩气至真空度为3-6×10-1pa后，开启靶源，开始真空镀膜；此种设备镀膜的特点是无污染，对磁体无损伤，设备结构简单，对试样形状限定小，镀膜效率高；主要用于小尺寸钕铁硼磁体表面金属防腐膜层的制备。

主权项

小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜设备，主体结构为卧式，它包括圆筒形炉壁（9），圆筒形炉壁（9）一端设后炉壁（10），形成炉体，炉体下设底架（12），其特征在于，在圆筒形炉壁（9）上设氩气进气口（８）和真空系统抽气口（1），圆筒形炉壁（9）的另一端设炉门（11），炉门（11）上设观察窗（7）；在后炉壁（10）上的转轴（2）上固定滚筒（3），滚筒（3）为网状，一端密闭，滚筒（3）由后炉壁（10）上的转轴（2）带动旋转，滚筒（3）内壁上设搅拌片（4），在圆筒形炉壁（9）上设左靶源（5）和右靶源（6），二者相对应，靶面正对滚筒（3）。