[实用新型]磁控溅射环装置及磁控溅射反应器有效
| 申请号： | 201420575596.3 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN204111859U | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;吴剑波;喻洁 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏;骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射环装置和磁控溅射反应器，其中，磁控溅射环装置包括：安装于磁控溅射腔室侧壁上，所述磁控溅射腔室侧壁具有定位销套，所述磁控溅射环装置包括：磁控溅射环，所述磁控溅射环包括内环侧壁和与所述内环侧壁相对的外环侧壁，所述外环侧壁具有凹槽；定位销，一端与凹槽底部连接，另一端套设在定位销套中，其特征在于，所述内环侧壁与所述定位销套距离不变，所述磁控溅射环的外环侧壁与所述定位销套之间的距离为大于0.01毫米且小于6毫米。本实用新型的磁控溅射环装置的使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 反应器 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射环装置，安装于磁控溅射腔室侧壁上，所述磁控溅射腔室侧壁具有定位销套，所述磁控溅射环装置包括： 磁控溅射环，所述磁控溅射环包括内环侧壁和与所述内环侧壁相对的外环侧壁，所述外环侧壁具有凹槽； 定位销，一端与凹槽底部连接，另一端套设在定位销套中； 其特征在于，所述内环侧壁与所述定位销套距离不变，所述磁控溅射环的外环侧壁与所述定位销套之间的距离为大于0.01毫米且小于6毫米。
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