[实用新型]硅片提升到位检测机构有效

专利信息
申请号: 201420292067.2 申请日: 2014-06-03
公开(公告)号: CN203882969U 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 刘海珊;孙红喆;王维熙 申请(专利权)人: 天津源天晟科技发展有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L31/18
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽英
地址: 300457 天津市塘沽区天津经济技术*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了硅片提升到位检测机构,它包括金属接近传感器,在所述的金属接近传感器的正下方安装有感应环芯轴,待检测状态下感应环自然下垂悬挂在感应环芯轴上,所述的感应环包括塑料基体,在所述的基体外壁中间设置有环形凹槽,在所述的环形凹槽内固定有不锈钢环形感应体,在工作过程中被提升的硅片能够接触并顶升感应环使感应环进入金属接近传感器的监测范围内。本机构的有益效果是:硅片接触的是一个自由状态的感应环,除去环的重力外,没有任何外力,对硅片表面的作用力最小,接触最简单,最轻柔,对硅片造成破损的隐患最小,同时感应环接触也没有误差,起到了既能准确检测,又能造成最低伤害风险。
搜索关键词: 硅片 提升 到位 检测 机构
【主权项】:
硅片提升到位检测机构,其特征在于:它包括金属接近传感器,在所述的金属接近传感器的正下方安装有感应环芯轴,待检测状态下感应环自然下垂悬挂在感应环芯轴上,所述的感应环包括塑料基体,在所述的基体外壁中间设置有环形凹槽,在所述的环形凹槽内固定有不锈钢环形感应体,在工作过程中被提升的硅片能够接触并顶升感应环使感应环进入金属接近传感器的监测范围内。 
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