[实用新型]真空减压干燥设备有效
申请号: | 201420226569.5 | 申请日: | 2014-05-05 |
公开(公告)号: | CN203811942U | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 郭杨辰;汪栋 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/13;F26B25/06 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种真空减压干燥设备,涉及显示器制造技术领域,能够提高彩膜基板的生产效率。所述真空减压干燥设备,包括上盖和底座,所述上盖与所述底座之间形成腔室;所述腔室中设置有可开合的挡板,所述挡板在闭合时将所述腔室分隔为上腔室和下腔室;所述上腔室中设置有朝向所述下腔室的摄像头和光源,所述下腔室壁上设置有抽气口。 | ||
搜索关键词: | 真空 减压 干燥设备 | ||
【主权项】:
一种真空减压干燥设备,其特征在于,包括:上盖和底座,所述上盖与所述底座之间形成腔室;所述腔室中设置有可开合的挡板,所述挡板在闭合时将所述腔室分隔为上腔室和下腔室;所述上腔室中设置有朝向所述下腔室的摄像头和光源;所述下腔室壁上设置有抽气口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420226569.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种液晶显示模组
- 下一篇:医用X线防护摄像眼镜