[实用新型]激光退火设备

摘要

本实用新型涉及薄膜制备技术领域，公开了一种激光退火设备。所述激光退火设备包括激光源和基板承载装置，所述基板承载装置包括呈平面结构、用于放置基板的固定面，所述激光源发出的激光照射到固定面上的入射角α小于90度。在将非晶硅薄膜层转变为多晶硅薄膜层的退火工艺中，通过设置激光源发出的激光不垂直照射到基板上，使得基板上的非晶硅薄膜层转变为多晶硅薄膜层后，因为基板有倾斜角度，受重力分量的影响晶粒结晶取向固定，多晶硅薄膜的晶粒的尺寸较大，且形状和尺寸分布均一，提高了LTPS薄膜晶体管的性能。本技术方案由于仅需改变激光照射到固定面上的入射角，方便简洁，制作成本低。

主权项

一种激光退火设备，包括激光源和基板承载装置，所述基板承载装置包括呈平面结构、用于放置基板的固定面，其特征在于，所述激光源发出的激光照射到所述固定面上的入射角α小于90°，所述固定面不平行于水平面。