[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法在审
申请号: | 201410738234.6 | 申请日: | 2014-12-05 |
公开(公告)号: | CN105719973A | 公开(公告)日: | 2016-06-29 |
发明(设计)人: | 李威龙;胡瑀梵;叶庭竹;石妙琪 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L21/28;H01L21/786;H01L29/40 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜晶体管及其制造方法。薄膜晶体管包括栅极、栅绝缘层、半导体层、导电图案以及第一电极与第二电极。栅极位于基板上。栅绝缘层位于基板上,以覆盖栅极。半导体层位于栅绝缘层上。导电图案位于半导体层上。第一电极与第二电极位于半导体层上,第一电极与第二电极之间具有第一长度,第一电极为源极与漏极中一者,以及第二电极为源极与漏极中另一者。导电图案与第一电极电性连接,导电图案与第二电极之间具有第二长度,以定义出通道,其中第二长度小于第一长度。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:在一基板上形成一栅极;在该基板上形成一栅绝缘层,以覆盖该栅极;在该栅绝缘层上形成一半导体层;在该半导体层上形成一导电图案;以及在该半导体层上形成一第一电极与一第二电极,该第一电极与该第二电极之间具有一第一长度,该第一电极为一源极与一漏极中一者,以及该第二电极为该源极与该漏极中另一者,该导电图案与该第一电极电性连接,该导电图案与该第二电极之间具有一第二长度,以定义出一通道,其中该第二长度小于该第一长度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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