[发明专利]含非晶碳被膜在审

专利信息
申请号: 201410482607.8 申请日: 2014-09-19
公开(公告)号: CN104451540A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 诹访浩司;广濑景太;佐藤彰;渡边裕二 申请(专利权)人: 佑能工具株式会社
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C16/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题是提供一种含非晶碳被膜,其是高硬度且具有与基材的高密合力、能够大幅提升加工用工具和机械部件的寿命且实用性极为优秀的含非晶碳被膜。本发明涉及一种含非晶碳被膜,其是在基材上形成的含非晶碳被膜,其中,膜厚分别为0.05μm以上的非晶碳被膜层[A]和非晶碳被膜层[B]按照所述非晶碳被膜层[A]配置在基材侧、所述非晶碳被膜层[B]配置在表层侧的方式层积构成,该含非晶碳被膜整体的膜厚设定为0.1μm以上且1.5μm以下,所述非晶碳被膜层[A]和所述非晶碳被膜层[B]具有规定的膜质。
搜索关键词: 含非晶碳被膜
【主权项】:
一种含非晶碳被膜,其是在基材上形成的含非晶碳被膜,其特征在于,膜厚分别为0.05μm以上的非晶碳被膜层[A]和非晶碳被膜层[B]按照所述非晶碳被膜层[A]配置在基材侧、所述非晶碳被膜层[B]配置在表层侧的方式层积构成,该含非晶碳被膜整体的膜厚设为0.1μm以上且1.5μm以下,对该含非晶碳被膜的截面照射电子射线进行电子能量损失谱分析时,对于如下述定义的X而言,所述非晶碳被膜层[A]的X大于所述非晶碳被膜层[B]的X,该非晶碳被膜层[A]的X为0.2~0.6,其中,在假设通过所述电子能量损失谱分析测定的电子能量损失谱谱图为下述(1)~(6)这六个高斯函数之和并对该电子能量损失谱谱图进行峰分离时,J的峰强度记为IJ、L的峰强度记为IL,此时,将IJ/IL定义为X,(1)在277eV~287eV具有峰的J(2)在283eV~293eV具有峰的K(3)在289eV~299eV具有峰的L(4)在295eV~305eV具有峰的M(5)在311eV~321eV具有峰的N(6)在325eV~335eV具有峰的P。
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