[发明专利]精确定位前层缺陷的聚焦离子束制样方法有效

专利信息
申请号: 201410443663.0 申请日: 2014-09-02
公开(公告)号: CN104198247B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 范荣伟;陈宏璘;龙吟;顾晓芳;刘祚钺 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N23/22
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种精确定位前层缺陷的聚焦离子束制样方法。对晶圆进行在线缺陷检查以找出缺陷,并且利用扫描电子显微镜或光学显微镜观察缺陷具体形貌。如果扫描电子显微镜无法观察到缺陷或判断缺陷发生的原因,并且根据光学显微镜观察结果也无法判断缺陷发生原因,则首先利用光学显微镜获取显微观察结果,然后借助显微观察结果,结合晶圆产品设计过程中获取的不同层次光罩的信息进行缺陷定位。
搜索关键词: 精确 定位 缺陷 聚焦 离子束 方法
【主权项】:
一种精确定位前层缺陷的聚焦离子束制样方法,其特征在于包括:第一步骤,用于对晶圆进行在线缺陷检查以找出缺陷,并且利用扫描电子显微镜或光学显微镜观察缺陷具体形貌;如果扫描电子显微镜无法观察到缺陷或判断缺陷发生的原因,并且根据光学显微镜观察结果也无法判断缺陷发生原因,则执行第二步骤;第二步骤,用于首先利用光学显微镜获取显微观察结果,然后借助显微观察结果,结合晶圆产品设计过程中获取的不同层次光罩的信息进行缺陷定位;其中,所述第二步骤包括:第一步:找出的缺陷相关联的层中存在可由光学显微镜和聚焦离子束机台分别获取层图像的公共层;在与找出的缺陷相关联的层中存在可由光学显微镜和聚焦离子束机台分别获取层图像的公共层的情况下执行下述第二步和第三步;第二步:将光学显微镜获取的该公共层的显微观察图像与该公共层的光罩图像进行图像匹配从而将显微观察图像与光罩图像进行位置对齐;第三步:将聚焦离子束机台获取的该公共层的聚焦离子束图像与该公共层的光罩图像进行图像匹配从而将聚焦离子束图像与光罩图像进行位置对齐;或者,所述第二步骤包括:第一步:找出的缺陷相关联的层中存在可由光学显微镜和聚焦离子束机台分别获取层图像的公共层;在与找出的缺陷相关联的层中不存在可由光学显微镜和聚焦离子束机台分别获取层图像的公共层的情况下执行下述第二步、第三步和第四步;第二步:将光学显微镜获取的与找出的缺陷相关联的最上层的显微观察图像与该最上层的光罩图像进行图像匹配从而将显微观察图像与光罩图像进行位置对齐,第三步:通过增大聚焦离子束机台操作时的工作电压获取该最上层的透视图像,第四步:将聚焦离子束机台获取的该最上层的透视图像与该最上层的光罩图像进行图像匹配从而将聚焦离子束图像与光罩图像进行位置对齐。
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