[发明专利]用于干法刻蚀设备的电极及其制备方法、干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201410443527.1 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104332380B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 陈程;吕艳明 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 柴亮,张天舒 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种电极及其制备方法，包括该电极的干法刻蚀设备。本发明通过将电极进行分体设计，电极包括电极基体和贴合于该电极基体上表面和侧面的保护层；所述的保护层具有与电极基体相匹配的结构。当电极工作一段时间后保护层上附着的反应物及副产物即将影响到对玻璃基板的刻蚀时，可将该保护层部分更换；而不必拆卸电极进行陶瓷清洗或剥离维修，避免了高强度的电极维护作业；同时通过将保护层设计为具有弹性的膜层可以改善玻璃基板与凸起间的摩擦碰撞防止玻璃基板背部压伤性不良。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 刻蚀 设备 电极 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于干法刻蚀设备的电极，其特征在于，包括电极基体和贴合于该电极基体表面的保护层；所述的保护层具有与电极基体相匹配的结构，所述电极基体具有上表面和周边的侧面，所述侧面和所述上表面均被所述保护层所覆盖；所述保护层采用绝缘材料制备；所述绝缘材料包括聚酰亚胺材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410443527.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：试样分析元件以及检测装置
- 下一篇：用于量化部件表面的清洁度水平的分析方法
