[发明专利]氟系表面处理剂与其制造方法及经该表面处理剂进行了处理的物品有效
| 申请号： | 201410302691.0 | 申请日： | 2014-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN104277691B | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 山根祐治;小池则之 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L71/00 | 分类号： | C08L71/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京千代*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面处理剂与其制造方法及经该表面处理剂进行了处理的物品。本发明的表面处理剂含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或该聚合物的部分水解缩合物，并且含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有‑(OCF2)p(OCF2CF2)q‑所表示的氟氧亚烷基结构(式中，p、q分别独立地为5～80的整数，且p+q＝10～100，括弧内所示的各单元也可无规键合)，且在至少一个末端具有至少一个下述式(1)所表示的基团，以及含氟氧亚烷基的聚合物在0.1Pa以下的压力下以2℃/min升温时，自150℃起至350℃为止的范围内的相对于该聚合物的总重量的重量减少为75％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 与其 制造 方法 进行 物品 | ||
【主权项】：
一种表面处理剂，其特征在于，含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或所述聚合物的部分水解缩合物；并且所述含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有‑(OCF2)p(OCF2CF2)q‑所表示的氟氧亚烷基结构，且在至少一个末端具有一个下述式(1)所表示的基团，式‑(OCF2)p(OCF2CF2)q‑中，p、q分别独立地为5～80的整数，且p+q＝10～100，括弧内所示的各单元也可无规键合，式(1)中，R为碳数1～4的烷基或苯基，X为水解性基，a为2或3，c为1～10的整数；以及对所述含氟氧亚烷基的聚合物在处于100℃～400℃的范围内的温度下进行分子蒸馏，将低沸点成分及/或高沸点成分除去，所述含氟氧亚烷基的聚合物在0.1Pa以下的压力下以2℃/min升温时，自150℃起至350℃为止的范围内的相对于所述聚合物的总重量的重量减少为75％以上。
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