[发明专利]掩模板、掩模板的制造方法及掩模板的裂纹检测装置在审
| 申请号: | 201410187101.4 | 申请日: | 2014-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN103984201A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
| 发明(设计)人: | 赵德友;王永茂 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44;G03F1/80;G01N27/00 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明属于显示领域,公开了一种掩膜板、掩膜板的制造方法及掩膜板的裂纹检测装置,所述掩膜板包括一基板,所述基板的表面形成有至少一个测试区,所述测试区内布置有与所述基板结合在一起的电极线,所述电极线的两端分别引出一个测试端子。本发明的掩模板的表面形成的各个测试区内布置有与所述基板结合在一起的电极线,通过测试电极线是否存在断路,就可以判断与电极线相结合的基板是否存在裂纹,从而可以简单快速判断掩模板的完整性,避免因掩模基板存在裂纹而导致产品出现质量问题。 | ||
| 搜索关键词: | 模板 制造 方法 裂纹 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,包括一基板,所述基板的表面形成有至少一个测试区,所述测试区内布置有与所述基板结合在一起的电极线,所述电极线的两端分别引出一个测试端子。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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