[发明专利]一种微小图形制备方法有效
| 申请号： | 201410124352.8 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103838080A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 张宜文;吴松;胡玲 | 申请（专利权）人： | 四川云盾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 林辉轮;王芸 |
| 地址： | 610207 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种微小图形制备方法：在基材表面涂覆感光面，感光面上方设置微透镜阵列，微透镜阵列上方设置微小图形掩模，掩模上方设置紫外灯光源；当紫外灯开启时，通过对掩模图形的缩小曝光实现感光面的嵌套光刻，最后取出涂覆感光面的基片显影获得所需微小结构，本发明可以实现微小图形及大面积结构的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微小 图形 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微小图形制备方法，其结构特征如下：（1）最底层设置基材，并在基材上涂覆感光面；（2）在涂覆感光面的基材上方设置微透镜阵列；（3）微透镜阵列上方设置微小图形掩模；（4）在掩模上方设置紫外光灯；（5）当紫外光灯开启时对掩模图形进行缩小投影曝光，实现感光面的嵌套光刻，最后取出基片进行显影，即可获得需要的微小结构。
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