[发明专利]一种浸液限制机构有效
| 申请号： | 201410114022.0 | 申请日： | 2014-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN104950585B | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 韦婧宇;聂宏飞;张洪博;赵旭 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种浸液限制机构，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道及供气通道，第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，供气通道连接至供气设备，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。本发明通过增设第二水平供液通道和第二水平出液通道，并对其位置和尺寸进行约束，改善主流场的流速及均匀性，并减小曝光场的压力波动，防止压力波动对浸液焦深及套刻的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸液 限制 机构 | ||
【主权项】：
一种浸液限制机构，将浸液限制在投影物镜和硅片之间，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道以及供气通道，所述第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，所述垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，所述第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，所述第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，所述供气通道连接至供气设备，其特征在于，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410114022.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
