[发明专利]ESD防护结构及方法

摘要

本发明涉及显示器件的结构及其制备领域，尤其涉及一种ESD防护结构及方法，通过在器件制备工艺时，在器件区域制备具有导电性质的结构层的同时，于空旷区制备静电放电结构，将残存于器件区的载流子进行放电，并循环往复，以在每个具有导电性质的结构层的制备工艺时，均会对器件区域中残存的载流子进行一次放电，进而使得器件区域中的载流子不会大量聚集，避免形成过大的瞬间电流，进而有效的降低器件结构中静电击伤现象的发生的几率，提高了产品的性能和良率。

主权项

一种ESD防护结构，所述防护结构包括：半导体衬底，所述半导体衬底具有器件区和空旷区；静电释放结构，所述静电释放结构设置于所述半导体衬底的空旷区；导电层，所述导电层设置于所述半导体衬底的器件区；其中，所述导电层与所述静电释放结构连接，以将残存于所述空旷区的载流子通过所述静电释放结构进行放电。