[发明专利]基板处理装置

摘要

一种基板处理装置，其包含向保持于旋转卡盘的基板的上面供给磷酸水溶液的磷酸供给装置；基板上保持有磷酸水溶液的状态下朝向基板的上面的一部分发出热的加热器；通过移动加热器，使由加热器加热的加热位置在基板的上面内移动的加热器移动装置；基板上保持有磷酸水溶液的状态下朝向基板的上面的一部分喷出水的水喷嘴；通过移动水喷嘴，使水的附着位置在基板的上面内移动的水喷嘴移动装置。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，其包含：水平保持基板的基板保持装置；通过将磷酸水溶液供给于保持在所述基板保持装置的基板的上面，形成覆盖该基板的上面全区域的磷酸水溶液的液膜的磷酸供给装置；从所述基板的上面侧加热所述磷酸水溶液的液膜的加热器；包括水喷嘴的水供给装置，该水喷嘴在前述加热器加热所述磷酸水溶液的液膜时朝向所述磷酸水溶液的液膜喷出水从而使在该液膜上附着水，该水供给装置从所述水喷嘴将相当于通过前述加热器的加热从所述磷酸水溶液的液膜蒸发的水的量的水供给于所述磷酸水溶液的液膜；以及通过移动所述水喷嘴，使所述水的附着位置沿着所述基板的上面移动的水喷嘴移动装置。