[发明专利]一种纳米级的铝刻蚀方法有效
申请号: | 201410048607.7 | 申请日: | 2014-02-11 |
公开(公告)号: | CN103789768A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 徐丽华;董凤良;苗霈;宋志伟;闫兰琴;褚卫国 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | C23F1/12 | 分类号: | C23F1/12;G02B5/18;B82Y40/00;B82Y20/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋;侯桂丽 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种纳米级的铝刻蚀方法。所述方法包括采用利用0℃以下的低温控制工艺的刻蚀工艺,及清洗工艺。本发明采用的低温刻蚀工艺,能有效地控制反应速率,并且能稳定地控制铝的纳米级关键尺寸、刻蚀深度及侧壁垂直度。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 刻蚀 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米级的铝刻蚀方法,其特征在于,包括采用利用0℃以下的低温控制工艺的刻蚀工艺,及清洗工艺。
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