[发明专利]流体处理装置和流体处理装置组件有效
| 申请号： | 201380074315.4 | 申请日： | 2013-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN105008284B | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 周耀周 | 申请（专利权）人： | 周耀周 |
| 主分类号： | C02F1/28 | 分类号： | C02F1/28;B01D29/96;B05B1/14;B05B1/18 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,杨俊波 |
| 地址： | 中国香港葵涌工棠街10*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 一种流体处理装置及流体处理组件，包括具有穿透壁(13)的处理腔室(1)，在穿透壁上形成流体出口部；处理腔室(1)构造成在工作状态，进入至处理腔室的流体将至少部分处理介质(100)以与处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与穿透壁邻接的介质床层(101)。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 装置 组件 | ||
【主权项】：
一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质以与所述处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与所述穿透壁邻接的介质床层。
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