[发明专利]加成-断裂低聚物有效
| 申请号： | 201380065942.1 | 申请日： | 2013-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN104870484B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | A·R·弗诺夫;W·H·莫泽;L·R·克雷普斯基;G·D·乔利;A·S·阿比尔雅曼;A·法尔萨菲;B·N·加达姆 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/38 | 分类号： | C08F2/38;C08F220/18;C08F220/56 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈长会;侯宝光 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了由以下通式表示的加成‑断裂低聚物：Z‑By‑A‑(B‑A)x‑B‑A‑By‑Z，其中A单体单元衍生自二酯或二酸，B单体单元衍生自具有与所述A单体的所述酸基团或酯基团共反应的官能团的双官能单体，x+y为0至60，Z包含烯键式不饱和聚合型基团，并且所述A或B单体中的至少一者包含1‑亚甲基‑3,3‑二甲基丙基基团。 | ||
| 搜索关键词： | 加成 断裂 低聚物 | ||
【主权项】：
一种由下式表示的加成‑断裂低聚物：![]()
其中RA和RB各自为杂烃基基团或烃基基团，其中RA和RB中的至少一者为![]()
X1为‑O‑或NR5‑，其中R5为H或C1‑C4烷基；Z包含烯键式不饱和聚合型基团；y为0或1；x为0或非0数，并且x或y中的至少一者必须为一。
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